一、概(gai)念

      潔凈室工程對(dui)控制硅(gui)芯片等(deng)產(chan)品(pin)接觸的(de)(de)大氣清(qing)潔度(du)、溫度(du)和濕度(du)至關重要，使產(chan)品(pin)能夠在稱(cheng)為潔凈室的(de)(de)良好環境空間中(zhong)(zhong)生產(chan)和制造。按照國際慣例，無塵(chen)凈化水(shui)平主要是(shi)根據(ju)每立(li)方米空氣中(zhong)(zhong)顆粒(li)直徑大于分割(ge)標(biao)(biao)準的(de)(de)顆粒(li)數來確定的(de)(de)。100%的(de)(de)無塵(chen)意味著完全(quan)沒(mei)有灰塵(chen)，而是(shi)以非常微量的(de)(de)單位控制。當然，在這(zhe)個(ge)標(biao)(biao)準中(zhong)(zhong)，符(fu)合(he)灰塵(chen)標(biao)(biao)準的(de)(de)粒(li)子比我們常見的(de)(de)灰塵(chen)已(yi)經很細微，但光學結構中(zhong)(zhong)的(de)(de)一些灰塵(chen)也(ye)會產(chan)生非常負面的(de)(de)影響，因此光學制作產(chan)品(pin)生產(chan)中(zhong)(zhong)沒(mei)有灰塵(chen)是(shi)必(bi)不可(ke)少的(de)(de)要求。

      每(mei)立方(fang)米(mi)小(xiao)于(yu)0 . 3微(wei)米(mi)粒(li)子大小(xiao)的(de)灰塵數(shu)量控(kong)制在3500個以下，達到國際(ji)無(wu)(wu)塵標(biao)準a級。目(mu)前(qian)適用于(yu)芯片級生產加(jia)工的(de)無(wu)(wu)塵標(biao)準對灰塵的(de)要(yao)求(qiu)高(gao)于(yu)a級，這些(xie)高(gao)標(biao)準主要(yao)適用于(yu)某些(xie)更高(gao)的(de)芯片生產。微(wei)塵的(de)數(shu)量嚴(yan)格控(kong)制在每(mei)立方(fang)米(mi)1000個以內。這在業(ye)界一般被(bei)稱為1k水平。

      二、潔(jie)凈(jing)室(shi)工(gong)程的(de)用途(tu)主要(yao)有以下(xia)三種:

      空氣凈(jing)化室(shi):已經建好(hao)并(bing)可(ke)以運行(xing)的凈(jing)化室(shi)(設(she)施(shi))。具備(bei)所有(you)(you)相關的服務和功(gong)能。但是(shi)設(she)施(shi)內沒有(you)(you)操作員(yuan)操作的設(she)備(bei)。

      靜態潔凈室(shi):功(gong)能齊全，安裝正確，可(ke)根據設(she)置使用或(huo)使用的潔凈室(shi)(設(she)施)，但(dan)設(she)施中沒有操作員。

      動態(tai)清潔(jie)(jie)室:位于正(zheng)常(chang)(chang)使用的(de)清潔(jie)(jie)室中，可提供(gong)完整(zheng)的(de)維修功能、設備和人(ren)員(yuan)，以及(ji)在需要時(shi)執行正(zheng)常(chang)(chang)工作。